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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0554996 (2006-10-31) |
등록번호 | US-7755300 (2010-08-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 13 |
A method and apparatus for controlling a power supply to prevent instabilities due to dynamic loads in RF plasma processing systems, operating at frequencies of from 1 MHz and up 1 MHz and above. The apparatus includes a power source, a power converter receiving power from the source, the power conv
We claim: 1. An RF plasma generator, comprising: a power source; a partial resonant inverter receiving a power form the power source, the partial resonant inverter providing a constant output power controlled by varying at least one of input voltage or switching frequency, wherein the partial reson
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