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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0789622 (2007-04-25) |
등록번호 | US-7774920 (2010-09-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 38 |
A method of forming microstructures. An article including a metal atom precursor is disproportionally exposed to electromagnetic radiation in an amount and intensity sufficient to convert some of the precursor to elemental metal. Additional conductive material may then be deposited onto the elementa
What is claimed: 1. A method of fabrication of metallic structures, comprising: providing a patterned article including a layer comprising at least one first portion that is conductive to a first extent and at least one second portion that is non-conductive or conductive to a second extent less tha
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