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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0631287 (2005-07-04) |
등록번호 | US-7811356 (2010-11-01) |
우선권정보 | JP-2004-207591(2004-07-14) |
국제출원번호 | PCT/JP2005/012319 (2005-07-04) |
§371/§102 date | 20070103 (20070103) |
국제공개번호 | WO06/006436 (2006-01-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 5 |
The disclosure is directed to a method for purifying metals, which can very efficiently and inexpensively eliminate impurity elements included in various metallic or semiconductor materials, or more specifically included in metallurgical grade silicon.
The invention claimed is: 1. A method for purifying a metal, comprising: a first step of holding a first molten metal containing impurities in a first crucible; a second step of immersing a first cooling body in the first molten metal held in the first crucible while letting a cooling fluid flow in
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