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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0661992 (2005-09-05) |
등록번호 | US-7811501 (2010-11-01) |
우선권정보 | JP-2004-258963(2004-09-06) |
국제출원번호 | PCT/JP2005/016252 (2005-09-05) |
§371/§102 date | 20070306 (20070306) |
국제공개번호 | WO06/028052 (2006-03-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 2 |
A mold which is processed by ion beam irradiation or electron beam irradiation and in which a throughput of the mold is high and a decrease in the throughput or electrostatic discharge due to charging does not occur, a method of producing the mold, and a method of producing a molded article produced
The invention claimed is: 1. A mold comprising a substrate made of a conductive vanadate glass containing vanadium pentoxide (V2O5) as a main component, and at least one of a cavity and a core formed by irradiating an ion beam of an atom having an atomic weight larger than the atomic weight of vana
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