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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0734063 (2007-04-11) |
등록번호 | US-7815495 (2010-11-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 23 |
A pad conditioner is provided for conditioning a polishing pad in chemical mechanical planarization (CMP). The pad conditioner comprises a plastic abrasive portion having a first hardness and optionally a brush portion having a second hardness less than the first hardness. The plastic abrasive porti
The invention claimed is: 1. A pad conditioner, comprising: a plastic abrasive portion having a first hardness, wherein the plastic abrasive portion comprises: a first base plate; and a plurality of plastic nodules formed on a surface of the first base plate, each of the plastic nodules having a pl
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