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Plasma deposition apparatus and method for making polycrystalline silicon

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/302
  • H01L-021/461
출원번호 UP-0714223 (2007-03-06)
등록번호 US-7816269 (2010-11-08)
발명자 / 주소
  • Aslami, Mohd A.
  • Wu, Dau
  • Charles, DeLuca
출원인 / 주소
  • Silica Tech, LLC
대리인 / 주소
    Patton Boggs LLP
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 3

초록

A plasma deposition apparatus for making polycrystalline silicon including a chamber for depositing said polycrystalline silicon, the chamber having an exhaust system for recovering un-deposited gases; a support located within the deposition chamber for holding a target substrate having a deposition

대표청구항

What is claimed: 1. A plasma deposition apparatus for making polycrystalline silicon comprising: chamber means for depositing said polycrystalline silicon; means for supporting a target substrate having a deposition surface; induction coupled plasma torch means for producing a plasma flame for reac

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Selitser, Simon I., Atmospheric pressure inductive plasma apparatus.
  2. Matsuki,Yasuo; Iwasawa,Haruo; Kato,Hitoshi, Composition for forming silicon film and method for forming silicon film.
  3. Gouskov Mikhail Ivanovich,RUX ; Danilov Evguenic Borisovich,RUX ; Aslami Mohammad Afzal ; Wu Dau, Method of making a tubular member for optical fiber production using plasma outside vapor deposition.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Urushihara, Makoto; Mizushima, Kazuki, Apparatus for producing polycrystalline silicon.
  2. Jang, Bo-Yun; Kim, Joon-Soo; Song, Hee-Eun, Apparatus for producing silicon nanoparticle using inductive coupled plasma.
  3. Urushihara, Makoto; Mizushima, Kazuki, Method for producing polycrystalline silicon.
  4. Urushihara, Makoto; Mizushima, Kazuki, Polycrystalline silicon producing method.
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