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Heat treatment system and method therefore 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F27D-005/00
출원번호 UP-0705443 (2007-02-13)
등록번호 US-7819658 (2010-11-15)
우선권정보 JP-2000-253201(2000-08-23); JP-2000-372098(2000-12-06); JP-2000-372099(2000-12-06); JP-2001-004971(2001-01-12)
발명자 / 주소
  • Sakata, Kazunari
  • Mochizuki, Shinya
  • Akimoto, Motoki
  • Motono, Hiroshi
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Smith, Gambrell & Russell, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 18

초록

Disclosed herein is a vertical heat treatment system capable of simplifying the structure of various mechanisms in the vicinity of an opening which is formed in a partition wall separating a housing-box transfer area from a treating-object transfer area (a wafer transfer area), and of contributing t

대표청구항

The invention claimed is: 1. A vertical heat treatment system comprising: a lifting mechanism which is vertically moved for carrying a holder, in which an object to be treated is held, in and out of a heat treatment furnace; a holder mounting portion for mounting thereon the holder to transfer the

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Tanahashi Takashi (Sagamihara JPX) Moriya Syuji (Yamanashi JPX) Wakabayashi Tsuyoshi (Kofu JPX) Matsuo Takenobu (Kofu JPX), Air cleaning apparatus.
  2. Muka Richard S., Automated wafer buffer for use with wafer processing equipment.
  3. Ishii Katsumi (Fujino JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Abe Masaharu (Sagamihara JPX) Yamaga Kenichi (Sagamihara JPX) Sakata Kazunari (Sagamihara JPX) Tanahashi Takashi (Machida JPX) Moriya Syuji (Y, Clean air apparatus.
  4. Murata Masanao (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Oyobe Hiroyuki (Ise JPX), Conveying system.
  5. Shirakawa Eiichi,JPX ; Sata Nobuyuki,JPX, Heat treatment apparatus.
  6. Kodama Shunsaku (Shiga JPX) Shima Yasumasa (Shiga JPX) Kohara Shigeru (Shiga JPX) Ohashi Yasuhiko (Shiga JPX), Method and apparatus for transferring wafers from wafer carrier to wafer conveyor apparatus in carrierless wafer surface.
  7. Asano Takanobu (Yokohama JPX) Iwai Hiroyuki (Sagamihara JPX) Ono Yuji (Sagamihara JPX), Method of loading and unloading wafer boat.
  8. Tanigawa Osamu,JPX, Method of transferring target substrates in semiconductor processing system.
  9. Kazunari Sakata JP; Tamotsu Tanifuji JP; Masahiro Ogawa JP, Opening and closing apparatus of an opening and closing lid of a box accommodating an object to be processed and a processing system of an object to be processed.
  10. Kikuchi Hisashi,JPX ; Ishii Katsumi,JPX, Processing method and processing unit for substrate.
  11. Ishii Katsumi,JPX, Processing unit for substrate manufacture.
  12. Bonora, Anthony C.; Martin, Raymond S.; Netsch, Robert; Oen, Joshua T.; Mosier, Terry; Fosnight, William J., SMIF pod storage, delivery and retrieval system.
  13. Weaver Robert A., Semiconductor furnace processing vessel base.
  14. Iwai Hiroyuki (Sagamihara JPX) Tanifuji Tamotsu (Yamato JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Okura Ryoichi (Kanagawa-ken JPX), Treatment apparatus.
  15. Iwai Hiroyuki,JPX ; Tanifuji Tamotsu,JPX ; Asano Takanobu,JPX ; Okura Ryoichi,JPX, Treatment apparatus.
  16. Ishii Katsumi (Fujino JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Abe Masaharu (Sagamihara JPX), Vertical heat treating apparatus.
  17. Ohsawa Tetsu (Sagamihara JPX), Vertical heat treating device.
  18. Iwabuchi Katsuhiko (Sagamihara JPX) Takanabe Eiichirou (Kanagawa-Ken JPX), Wafer processing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Gupta, Nitu; Rieke, Larry D.; Foxworthy, Edward, Furnace door latch assembly.
  2. Hishiya, Katsuyuki; Takahashi, Kiichi, Processing system for process object and thermal processing method for process object.
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