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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0779362 (2007-07-18) |
등록번호 | US-7828944 (2010-11-25) |
우선권정보 | JP-2006-195686(2006-07-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 2 |
An electroplating apparatus includes: a wafer holder that is detachable from an engaging hole of a cathode holder and capable of moving in a up and down direction; a spring contact type cathode electrode that is fixed to an electrode housing recess on a top surface of the wafer holder and presses ag
The invention claimed is: 1. An electroplating apparatus, comprising: a plating bath in which a plating solution is accommodated; a cathode holder having an engaging hole disposed penetrating through a bottom portion of the plating bath; a wafer hold disposed at an upper end of the engaging hole; a
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