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Gas filling apparatus for photomask box

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65B-001/04
출원번호 UP-0541545 (2006-10-03)
등록번호 US-7845374 (2011-01-31)
우선권정보 TW-95210935 U(2006-06-09)
발명자 / 주소
  • Shuen, Pan Yung
  • Chen, Li Nien
출원인 / 주소
  • Gudeng Precision Industrial Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Chow, Ming
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 10

초록

A gas filling apparatus used to fill a photomask box with gas such as nitrogen or other inert gas. The gas filling apparatus of the present invention has a gas filling chamber provided with a plurality of first pillared elements, a plurality of second pillared elements, at least one gas inlet, at le

대표청구항

What is claimed is: 1. A gas filling apparatus for photomask box adapted to fill a photomask box with at least one particular gas, said gas filling apparatus comprising a gas filling chamber, said photomask box comprising a cover member, said cover member being disposed with a plurality of through

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Davis, Jeffry Alan; Harris, Randy A., Apparatus and method for cleaning and drying a container for semiconductor workpieces.
  2. Fosnight William J. ; Bonora Anthony C. ; Martin Raymond S. ; Tatro Jay, Evacuation-driven SMIF pod purge system.
  3. Williams Randall S. (Chaska MN) Cheesebrow Nicholas T. (St. Paul MN), Mechanical interface wafer container.
  4. Leeser Karl F., Method and apparatus for dechucking a workpiece from an electrostatic chuck.
  5. Bonora Anthony C. ; Neads Michael A. ; Oen Joshua T., Method and apparatus for vertical transfer of a semiconductor wafer cassette.
  6. Glenn A. Roberson, Jr. ; Robert M. Genco ; Robert B. Eglinton ; Wayland Comer ; Gregory K. Mundt, Molecular contamination control system.
  7. Miyajima,Toshihiko; Kagaya,Takeshi; Suzuki,Hitoshi; Sasaki,Mutsuo, Purging system and purging method for the interior of a portable type hermetically sealed container.
  8. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Wartenbergh Robert P. (Woodside CA) Jain Sudhir (Fremont CA) Davis Mark R. (Mountain View CA), Sealable transportable container having improved liner.
  9. Yang Tung-Fang,TWX ; Wu Tzong-Ming,TWX, Standard mechanical interface wafer pod gas filling system.
  10. Bonora Anthony C. ; Wartenbergh Robert P. ; Gomes Christopher, Two stage valve for charging and/or vacuum relief of pods.
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