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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0305822 (2007-06-11) |
등록번호 | US-7846749 (2011-01-31) |
우선권정보 | FR-06 05620(2006-06-22) |
국제출원번호 | PCT/FR2007/000961 (2007-06-11) |
§371/§102 date | 20081219 (20081219) |
국제공개번호 | WO07/147956 (2007-12-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 8 |
A method of monitoring a heat treatment of a microtechnological substrate includes placement of the substrate to be treated in a heating zone and applying a heat treatment to the substrate, under predetermined temperature conditions, while monitoring the change over the course of time in the vibrato
The invention claimed is: 1. A method for monitoring heat treatment of a microtechnological substrate, the method comprising the following steps: placing the substrate in a heating zone; applying the heat treatment to the substrate under predetermined temperature conditions and monitoring the vibra
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