[특허]Laser ablation resist

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Laser ablation resist 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-007/00
출원번호	US-0420817 (2006-05-30)
등록번호	US7867688 (2010-12-28)
발명자 / 주소	Phillips, Scott E. Tredwell, Timothy J. Tutt, Lee W. Pearce, Glenn T. Nguyen, Kelvin Wexler, Ronald M.
출원인 / 주소	Eastman Kodak Company
대리인 / 주소	Nelson A., Blish
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 20

초록

A method of making micro-structure devices by coating a first layer of resist (12) on a substrate (10). A pattern is created on the substrate by radiation induced thermal removal of the resist.

대표청구항 ▼

The invention claimed is: 1. A method of making micro-structure devices comprising:coating first layer of resist material on a substrate;creating a pattern on said substrate material by image wise radiation induced thermal removal of said first resist material to expose said substrate;plasma etching said substrate which has been exposed, and the additional step of removing residual organic resist and resist decomposition by-products with O2 plasma.

이 특허에 인용된 특허 (20)

Lund Gary K. (Malad ID) Blau Reed J. (Richmond UT), Anhydrous 5-aminotetrazole gas generant compositions and methods of preparation.
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Woods John (Dublin IEX) Coakley Pauline (Kilkenny IEX), Anionically polymerizable monomers, polymers thereof and use of such polymers in photoresists.
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Phillips, Bradley A.; Kay, David B.; Boroson, Michael L., Apparatus for permitting transfer of organic material from a donor to form a layer in an OLED device.
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Pearce Glenn T. (Fairport NY) Henzel Richard P. (Webster NY), Barrier layer for laser ablative imaging.
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Pearce Glenn T. ; Neumann Stephen M., Barrier layer for laser ablative imaging.
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Tutt Lee W. (Webster NY), Cinnamal-nitrile dyes for laser recording element.
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Neumann Stephen Michael, Dye donor binder for laser-induced thermal dye transfer.
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Fujii Tsuneo (Suita JPX) Inukai Hiroshi (Takatsuki JPX) Deguchi Takayuki (Ibaraki JPX) Amano Toshihiko (Settsu JPX) Kakuchi Masami (Katsuta JPX) Asakawa Hiroshi (Mito JPX) Kogure Osamu (Mito JPX), Fluoroalkyl acrylate resist material and process for forming fine resist pattern.
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DeBoer Charles D. (Rochester NY), Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer.
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Weidner Charles H. ; Williams Kevin W., Laser donor element.
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Tredwell,Timothy J.; Tutt,Lee W.; Kay,David B.; Hong,Yongtaek; Pearce,Glenn T.; Phillips,Scott E., Laser resist transfer for microfabrication of electronic devices.
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Burberry Mitchell S. ; Weber Sharon W., Laser-induced material transfer digital lithographic printing plates.
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Hawkins William G. ; Burke Cathie J. ; Calistri-Yeh Mildred ; Atkinson Diane, Method and materials for fabricating an ink-jet printhead.
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Burberry Mitchell Stewart (Webster NY) DeBoer Charles David (Rochester NY) Weber Sharon Wheten (Webster NY), Method of imaging of lithographic printing plates using laser ablation.
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Andrews, John R.; Burke, Cathie J.; Markham, Roger G., Methods for forming features in polymer layers.
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Imai Genji,JPX ; Kogure Hideo,JPX, Negative type photosensitive resin composition and method for forming resist pattern.
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Aoai, Toshiaki; Sato, Kenichiro; Kodama, Kunihiko, Positive photoresist composition for far ultraviolet exposure.
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Blanchet-Fincher Graciela B. (Wilmington DE) Chang Catherine T. (Wilmington DE) Kempf Richard J. (Towanda PA), Positive-working photosensitive electrostatic master with improved invironmental latitude.
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Sanders James F. (St. Joseph Township ; County St. Croix WI), Resist imageable photopolymerizable compositions.
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Woods John G. (Dublin IEX) Rooney John M. (Kildare IEX), Resists formed by vapor deposition of anionically polymerizable monomer.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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