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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0453301 (2009-05-06) |
등록번호 | US7879633 (2011-01-18) |
우선권정보 | JP-2000-000-209352(2000-07-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 26 |
A method of manufacturing an optical element including the steps of: forming a through hole in a semiconductor element which has an optical section and an electrode electrically connected to the optical section; and forming a conductive layer extending from a first surface of the semiconductor eleme
What is claimed is: 1. A method of manufacturing an optical element, comprising:forming a through hole in a semiconductor wafer so that the through hole extends from a first surface of the semiconductor wafer to a second surface of the semiconductor wafer, the second surface of the semiconductor waf
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