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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0320630 (2009-01-30) |
등록번호 | US7892328 (2011-02-08) |
우선권정보 | JP-2008-008-056823(2008-03-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 9 |
A PSA apparatus for high-purity hydrogen gas production is provided which can recover high purity hydrogen gas at a high recovery rate from a reformed gas (hydrogen-containing gas) produced by a reforming process, for example an autothermal reforming process, and containing, as impurity components,
What is claimed is: 1. A PSA apparatus for high-purity hydrogen gas production by removing CO, CO2, N2 and/or Ar by adsorption from a hydrogen-containing gas, comprising:an adsorption tower; andan adsorbent bed in said adsorption tower, successively including a CO adsorbent layer for selectively ads
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