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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0867914 (2007-10-05) |
등록번호 | US7901552 (2011-02-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 0 |
A sputtering chamber has a sputtering target comprising a backing plate and a sputtering plate. The backing plate comprises a backside surface having a plurality of concentric circular grooves and a plurality of arcuate channels which intersect the circular grooves. The sputtering target can be posi
What is claimed is: 1. A sputtering target for a sputtering chamber, the sputtering target comprising:(a) a backing plate with a backside surface having radially inner, middle and outer regions, the backside surface comprising:(i) a plurality of circular grooves which are spaced apart from one anoth
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