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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0035008 (2008-02-21) |
등록번호 | US7981221 (2011-07-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 49 |
Methods and apparatus for cleaning a substrate (e.g., wafer) in the fabrication of semiconductor devices utilizing electrorheological (ER) and magnetorheological (MR) fluids to remove contaminant residual particles from the substrate surface are provided.
What is claimed is: 1. A method for cleaning a surface of a semiconductor substrate having residual particles thereon comprising:applying a magnetorheological or electrorheological fluid having a fluid consistency onto the substrate;applying a field to increase viscosity of the rheological fluid up
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