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Quartz glass blank and method for producing said blank 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03C-003/06
출원번호 US-0597087 (2005-05-11)
등록번호 US7981824 (2011-07-06)
우선권정보 DE-2004-0 2004 024 808(2004-05-17)
국제출원번호 PCT/EP2005/005059 (2005-05-11)
§371/§102 date 20071219 (20071219)
국제공개번호 WO05/114328 (2005-12-01)
발명자 / 주소
  • Englisch, Wolfgang
  • Takke, Ralf
  • Kuehn, Bodo
  • Uebbing, Bruno
  • Koeppler, Rainer
출원인 / 주소
  • Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
대리인 / 주소
    Tiajoloff and Kelly LLP
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 6

초록

The present invention relates to a quartz glass blank for an optical component for transmitting radiation of a wavelength of 15 nm and shorter, the blank consisting of highly pure quartz glass, doped with titanium and/or fluorine, which is distinguished by an extremely high homogeneity. The homogene

대표청구항

The invention claimed is: 1. A quartz glass blank for an optical component for transmitting radiation of a wavelength of 15 nm and shorter, said blank being cylindrical and having a cylinder axis with a height, and comprising highly pure quartz glass, doped with titanium and/or fluorine, wherein sai

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Oswald, Monika; Deller, Klaus; Mangold, Helmut; Schneider, Gerrit; Clasen, Rolf; Hornfeck, Markus, Dispersion comprising silicon/titanium mixed oxide powder, and green bodies and shaped glass articles produced therefrom.
  2. Nishimura Hiroyuki (Fukushima JPX) Fujinoki Akira (Fukushima JPX) Matsuya Toshikatsu (Fukushima JPX) Inaki Kyoichi (Fukushima JPX) Kato Toshiyuki (Fukushima JPX) Shimada Atsushi (Fukushima JPX), Optical member of synthetic quartz glass for excimer lasers and method for producing same.
  3. Englisch Wolfgang (Kelkheim DEX) Goy Heinrich (Hasselroth DEX) Sauerwein Paul (Rodenbach DEX) Hitzschke Peter (Rodenbach DEX) Simmat Fritz (Gelnhausen DEX) Takke Rolf (Hanau DEX) Steiner Gerhard (Sel, Process for the production of a homogeneous ream-free body made of quartz glass.
  4. Shoup Robert D. (Corning NY), Sol-gel method for making ultra-low expansion glass.
  5. Ikuta, Yoshiaki; Kikugawa, Shinya; Masui, Akio; Shimodaira, Noriaki; Yoshizawa, Shuhei, Synthetic quartz glass and method for preparing the same.
  6. Fujinoki Akira,JPX ; Sugama Akihiko,JPX ; Kataoka Masaatsu,JPX ; Englisch Wolfgang,DEX, Synthetic silica glass formed article for optical use.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Kuehn, Bodo, Blank of titanium-doped glass with a high silica content for a mirror substrate for use in EUV lithography and method for the production thereof.
  2. Annamalai, Sezhian; Duran, Carlos Alberto; Hrdina, Kenneth Edward; Moore, Lisa Anne, Doped silica-titania glass having low expansivity and methods of making the same.
  3. Annamalai, Sezhian; Duran, Carlos Alberto; Hrdina, Kenneth Edward, High hydroxyl TiO2-SiO2 glass.
  4. Duran, Carlos; Hrdina, Kenneth Edward; Mueller, Michael A, Low expansivity, high transmission titania doped silica glass.
  5. Maida, Shigeru; Otsuka, Hisatoshi; Sekizawa, Osamu; Yanagisawa, Naoki, Titania-doped quartz glass and making method.
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