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Semiconductor device and method of fabricating the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-029/76
출원번호 US-0969019 (2008-01-03)
등록번호 US7982254 (2011-07-06)
발명자 / 주소
  • Nagai, Kouichi
  • Sato, Katsuhiro
  • Sugawara, Kaoru
  • Takahashi, Makoto
  • Kudou, Masahito
  • Asai, Kazuhiro
  • Miyazaki, Yukimasa
  • Saigoh, Kaoru
출원인 / 주소
  • Fujitsu Semiconductor Limited
대리인 / 주소
    Fujitsu Patent Center
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 4

초록

A protective film (56) having a water/hydrogen blocking function is formed so as to cover the periphery of a pad electrode (54a) while being electrically isolated from the pad electrode. A material selected in the embodiment for composing the protective film is a highly moisture-proof material havin

대표청구항

What is claimed is: 1. A semiconductor device comprising:a semiconductor substrate;a capacitor structure formed over said semiconductor substrate, and having a dielectric film held between a lower electrode and an upper electrode;an interconnect structure formed over said capacitor structure, and el

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Sota Kobayashi JP, Ferroelectric memory device having a protective layer.
  2. Ramer O. Glenn ; Rosser Robin W., In situ reactive layers for protection of ferroelectric integrated circuits.
  3. Argos ; Jr. George (Colorado Springs CO) Spano John D. (Colorado Springs CO) Traynor Steven D. (Colorado Springs CO), Passivation method and structure for a ferroelectric integrated circuit using hard ceramic materials or the like.
  4. Takenaka Kazuhiro (Suwa JPX) Fujisawa Akira (Suwa JPX), Semiconductor device having a transistor, a ferroelectric capacitor and a hydrogen barrier film.
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