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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0073430 (2008-03-05) |
등록번호 | US7988537 (2011-07-18) |
우선권정보 | JP-2003-003-033015(2003-02-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 37 |
A substrate holding apparatus is for holding a substrate such as a semiconductor wafer in a polishing apparatus for polishing the substrate to a flat finish. The substrate holding apparatus comprises a vertically movable member, and an elastic member for defining a chamber. The elastic member compri
The invention claimed is: 1. A substrate holding apparatus for holding and pressing a substrate to be polished against a polishing surface, said substrate holding apparatus comprising:a vertically movable member;an elastic member connected to said vertically movable member; anda retainer ring arrang
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