최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0141534 (2005-05-31) |
등록번호 | US7998865 (2011-08-03) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
A system (500) removes wafer edge residue from a target wafer (508). A wafer holding mechanism (502) holds and rotates the target wafer (508). A residue remover mechanism (504) mechanically interacts or abrades an edge surface of the target wafer (508) and removes strongly adhered residue from the e
What is claimed is: 1. A system for removing wafer edge residue comprising:a wafer comprised of semiconductor material having a planar top surface, a bottom surface and an edge surface, wherein strongly adhered residue is initially formed on the edge surface and comprises one or more of carbon and f
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.