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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0368929 (2006-03-06) |
등록번호 | US8002935 (2011-08-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 172 |
A method of making a polymeric laminated wafer comprising different film materials that are softenable and formable at different softening temperatures corresponding with the film materials. Also disclosed is a laminated wafer wherein a first layer has different thermal properties than a second laye
What is claimed is: 1. A method for forming a laminated wafer comprising the following steps in the sequence set forth:(a) placing the laminated wafer having at least a cellulose resin protective layer and a polycarbonate base layer in a heated environment having a first temperature capable of softe
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