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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0154003 (2008-05-19) |
등록번호 | US8009268 (2011-08-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 21 |
An immersion lithography system is provided which includes an optical source operable to produce light having a nominal wavelength and an optical imaging system. The optical imaging system has an optical element in an optical path from the optical source to an article to be patterned thereby. The op
The invention claimed is: 1. An immersion lithography system, comprising:an optical source operable to produce light having a nominal wavelength; andan optical imaging system including an optical element in an optical path from said optical source to an article to be patterned by said optical imagin
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