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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0408559 (2006-04-21) |
등록번호 | US8012304 (2011-08-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 84 |
A plasma reactor having a reactor chamber and an electrostatic chuck having a surface for holding a workpiece inside the chamber includes inner and outer zone backside gas pressure sources coupled to the electrostatic chuck for applying a thermally conductive gas under respective pressures to respec
What is claimed is: 1. A plasma reactor, comprising:a reactor chamber and an electrostatic chuck having a surface for holding a workpiece inside said chamber and having respective inner and outer zones;inner and outer zone backside gas pressure sources coupled to said electrostatic chuck for applyin
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