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Water quality evaluation method and substrate contacting apparatus used 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-033/18
출원번호 US-0840726 (2007-08-17)
등록번호 US8012755 (2011-08-23)
우선권정보 JP-2006-006-224401(2006-08-21)
발명자 / 주소
  • Fukui, Takeo
  • Yokoi, Ikunori
  • Mizuniwa, Tetsuo
출원인 / 주소
  • Kurita Water Industries Ltd.
대리인 / 주소
    J.C. Patents
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 22

초록 ▼

A water quality evaluation method capable of evaluating quality of water to be evaluated with high precision and a substrate contacting apparatus used in the water quality evaluation method are provided. The substrate contacting apparatus 10 has a sealing performance keeping the interior at a vacuum

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. A water quality evaluation method, comprising:providing a substrate contacting apparatus;performing a sealing performance evaluation of the substrate contacting apparatus by connecting the substrate contacting apparatus to a vacuum pump, creating a pressure drop in the substra

이 특허에 인용된 특허 (22)

  1. Abrams Robert S. (Albany NY) Supranowicz Ronald P. (Lenox MA), Container for a wafer chip.
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  2. Muraoka Hisashi (Kanagawa JPX) Kakizaki Takeyoshi (Tokyo JPX), Container for semiconductor wafer sample and method of preparing sample.
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  3. Ambrogio Sala (Agrate Brianza ITX), Container for vacuum storing and/or shipping silicon wafers.
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  4. Komatsu Fumio (Fuchu JPX) Miyazaki Kunihiro (Nerima JPX) Shimazaki Ayako (Yokohama JPX), Contaminating-element analyzing method and apparatus of the same.
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  5. Fujii Shingi (Osaka JPX) Fuse Genshu (Toyonaka JPX) Inoue Morio (Ibaraki JPX), Crystal evaluation apparatus and crystal evaluation method.
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  6. Matsushita Hiroshi,JPX ; Tsuchiya Norihiko,JPX ; Toyomaru Youko,JPX, Defect-position identifying method for semiconductor substrate.
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  7. Blalock, Guy T., Detection of gas phase materials.
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  8. Hinaga Yasushi (Machida JPX), Detector apparatus of desorption gas and method therefore.
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  9. Goodman John B. (Chanhassen MN) Mikkelsen Kirk J. (Chanhassen MN), Evacuated wafer container.
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  10. Doche Claude (Claix FRX), Flat box for confining a flat article under a special atmosphere.
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  11. Maeda Ayako (Kawasaki JPX) Kageyama Mokuji (Yokohama JPX) Yoshii Shintaro (Tokyo JPX) Ogino Masanobu (Yokosuka JPX), Impurity measuring method.
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  12. Yamasaki Shinya,JPX ; Aoki Hidemitsu,JPX, Method for collecting a metallic contaminants from a wafer.
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  13. Weems John A., Method for detecting a location of contaminant entry in a processing fluid production and distribution system.
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  14. Komori Junko (Itami JPX) Mashiko Yoji (Itami JPX), Method of detecting and analyzing impurities.
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  15. Tamaoki Makiko (Tokyo JPX), Method of measuring amount of organic material adsorbed to surface of semiconductor substrate.
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  16. Bennett Ryan Paul ; Zaro ; Jr. Harry Frank ; Iizuka Naoto, Method of monitoring fluid contamination.
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  17. Roland Bernard FR; Eric Chevalier FR, Mini-environment control system and method.
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  18. Fukuda Hiroyuki,JPX ; Nakanishi Takashi,JPX ; Hirose Mitsuru,JPX, Preparation of analytical samples, analysis of impurities, preparation of highly purified phosphoric acid and production of semiconductor devices.
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  19. Langan, John Giles; McDermott, Wayne Thomas; Hsiung, Thomas Hsiao-Ling, Self evacuating micro environment system.
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  20. Miyazaki Kunihiro (Tokyo JPX), Surface processing method effected for total-reflection X-ray fluorescence analysis.
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  21. Ishimaru Hajime (Tsukuba JPX) Miyamoto Kazuo (Iwatsuki JPX) Ono Kyozi (Iwatsuki JPX) Mikasa Yutaka (Mishima JPX) Takemura Hiroshi (Chofu JPX), Vacuum container.
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  22. Foster Leonard W. (Richardson TX) Millis Edwin G. (Dallas TX), Vented vacuum semiconductor wafer cassette.
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