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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0789361 (2010-05-27) |
등록번호 | US8012852 (2011-08-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 3 |
A technique for forming a film of material (12) from a donor substrate (10). The technique has a step of introducing energetic particles (22) through a surface of a donor substrate (10) to a selected depth (20) underneath the surface, where the particles have a relatively high concentration to defin
What is claimed is: 1. A process for forming a material for a solar cell, said process comprising steps of:disposing a donor substrate on a metal workpiece utilizing an adhesive;introducing hydrogen particles through a surface of the donor substrate to a selected depth underneath said surface, said
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