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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0317374 (2005-12-22) |
등록번호 | US8016894 (2011-08-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 5 |
An apparatus and method for generating gas-phase active chemical species suitable for selectively processing one side of a textile or nonwoven material are described. Processing includes etching or stripping coatings, as examples. A low-temperature plasma is used to produce an ionized gas containing
What is claimed is: 1. A method for selectively processing a one side of a two-sided textile or a two-sided nonwoven material, comprising the steps of:generating reactive chemical species using a low-temperature plasma proximate to the chosen side of the textile or nonwoven material and effective fo
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