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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0752787 (2007-05-23) |
등록번호 | US8029875 (2011-09-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 28 |
The present disclosure relates to a method for plasma ion deposition and coating formation. A vacuum chamber may be supplied, wherein the vacuum chamber is formed by a hollow substrate having a length, diameter and interior surface. A plasma may be formed within the chamber while applying a negative
What is claimed is: 1. A method for plasma ion deposition and coating formation comprising:providing a vacuum chamber comprising a hollow substrate having a length, diameter and interior surface and an electrode provided within the interior of said hollow substrate, extending along all or a portion
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