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Radio frequency power control system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05H-001/46
출원번호 US-0366274 (2009-02-05)
등록번호 US8040068 (2011-10-04)
발명자 / 주소
  • Coumou, David J.
  • Eyerman, Paul
  • Ioriatti, Carl
  • Stenglein, William
  • Fisk, II, Larry J.
  • Radomski, Aaron
  • Pham, Richard
출원인 / 주소
  • MKS Instruments, Inc.
대리인 / 주소
    Harness, Dickey & Pierce, P.L.C.
인용정보 피인용 횟수 : 48  인용 특허 : 7

초록 ▼

A radio frequency (RF) system includes a control module that allocates M predetermined frequency intervals. The system also includes N RF sources that each applies first RF power to electrodes within a plasma chamber at frequencies within an assigned respective one of the M predetermined frequency i

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. A radio frequency (RF) system comprising:a control module that allocates M predetermined frequency intervals; andN RF sources each applying first RF power to electrodes within a plasma chamber at frequencies within an assigned respective one of the M predetermined frequency in

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Mavretic Anton (Marlton NJ) Ciszek Andrew (Maple Shade NJ) Stach Joseph (Medford NJ), Apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance.
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  2. Setoyama Eiji (Hitachi JPX) Kamei Mitsuhiro (Hitachi JPX), Film forming system using high frequency power and power supply unit for the same.
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  3. Coumou, David J.; Kirk, Michael L., Multirate processing for metrology of plasma RF source.
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  4. Coumou, David J., Phase and frequency control of a radio frequency generator from an external source.
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  5. Patrick Roger (Santa Clara CA) Bose Frank A. (Wettingen CHX), Power control and delivery in plasma processing equipment.
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  6. Wilbur Joseph, Ratiometric autotuning algorithm for RF plasma generator.
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  7. Brounley Richard W. (Largo FL), Solid state plasma chamber tuner.
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이 특허를 인용한 특허 (48)

  1. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., Adjustment of power and frequency based on three or more states.
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  2. Choi, Myeong Yeol; Shaw, Denis; Mueller, Mike; Roberg, Jeffrey; Jordan, Steve, Apparatus for frequency tuning in a RF generator.
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  3. Choi, Myeong Yeol; Shaw, Denis; Mueller, Mike; Roberg, Jeffrey; Jordan, Steve, Apparatus for frequency tuning in a RF generator.
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  4. Valcore, Jr., John C.; Povolny, Henry S., Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage.
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  5. Howald, Arthur M.; Valcore, Jr., John C., Cable power loss determination for virtual metrology.
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  6. Albarede, Luc, Chamber matching for power control mode.
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  7. Albarede, Luc, Chamber matching using voltage control mode.
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  8. Fong, Andrew S.; Valcore, Jr., John C., Computation of statistics for statistical data decimation.
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  9. Fong, Andrew S.; Valcore, Jr., John C., Computation of statistics for statistical data decimation.
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  10. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J.; Sato, Arthur, Determining a malfunctioning device in a plasma system.
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  11. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., Determining a value of a variable on an RF transmission model.
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  12. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J.; Fong, Andrew S., Edge ramping.
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  13. Bhutta, Imran Ahmed, Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same.
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  14. Valcore, Jr., John C.; Singh, Harmeet; Povolny, Henry, Etch rate modeling and use thereof for in-chamber and chamber-to-chamber matching.
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  15. Valcore, Jr., John C.; Singh, Harmeet; Povolny, Henry, Etch rate modeling and use thereof with multiple parameters for in-chamber and chamber-to-chamber matching.
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  16. Bhutta, Imran Ahmed, High speed high voltage switching circuit.
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  17. Bhutta, Imran, High voltage switching circuit.
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  18. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., Impedance-based adjustment of power and frequency.
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  19. Marakhtanov, Alexei; Chen, Zhigang; Holland, John Patrick, Ion energy control by RF pulse shape.
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  20. Wang, Bo; Xu, Lichun; Zhang, Ming; Wang, Ruzhi; Song, Xuemei; Hou, Yudong; Zhu, Mankang; Liu, Jingbing; Wang, Hao; Yan, Hui, Method for improving uniformity of high-frequency plasma discharge by means of frequency modulation.
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  21. Merte, Rolf, Method for matching the impedance of the output impedance of a high-frequency power supply arrangement to the impedance of a plasma load and high-frequency power supply arrangement.
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  22. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system.
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  23. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J.; Singh, Harmeet, Methods and apparatus for synchronizing RF pulses in a plasma processing system.
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  24. Van Zyl, Gideon; Gonzales, Juan Jose, Multi-feed RF distribution systems and methods.
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  25. Van Zyl, Gideon, Noise based frequency tuning and identification of plasma characteristics.
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  26. Van Zyl, Gideon, Noise based frequency tuning and identification of plasma characteristics.
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  27. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
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  28. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
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  29. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
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  30. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
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  31. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
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  32. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
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  33. Valcore, Jr., John C.; Rogers, James Hugh; Webb, Nicholas Edward; Muraoka, Peter T., RF impedance model based fault detection.
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  34. Bera, Kallol, RF multi-feed structure to improve plasma uniformity.
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  35. Bera, Kallol, RF multi-feed structure to improve plasma uniformity.
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  36. Valcore, Jr., John C.; Howald, Arthur M., Segmenting a model within a plasma system.
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  37. Valcore, Jr., John C., Soft pulsing.
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  38. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., State-based adjustment of power and frequency.
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  39. Valcore, Jr., John C.; Singh, Harmeet; Lyndaker, Bradford J., Sub-pulsing during a state.
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  40. Mavretic, Anton, Switching circuit.
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  41. Mavretic, Anton, Switching circuit.
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  42. Mavretic, Anton, Switching circuit for RF currents.
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  43. Blackburn, Thomas Joel; McIntyre, Thomas; Tomasel, Fernando Gustavo, System level power delivery to a plasma processing load.
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  44. Moore, Cameron A.; Scott, Douglas A.; Collins, George J., System, method and apparatus for generating plasma.
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  45. Van Zyl, Gideon, Systems and methods for obtaining information about a plasma load.
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  46. Yamamoto, Takashi; Shimada, Junichi, Test apparatus and plasma processing apparatus.
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  47. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., Using modeling to determine ion energy associated with a plasma system.
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  48. Valcore, Jr., John C.; Lyndaker, Bradford J., Using modeling to determine wafer bias associated with a plasma system.
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