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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0416664 (2009-04-01) |
등록번호 | US8043462 (2011-10-12) |
우선권정보 | TW-2008-7142036 A(2008-10-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 8 |
A method for forming gas barriers on electronic devices is provided. The fabrication method includes: providing a first substrate having at least one electronic device thereon; providing a second substrate and forming a gas barrier over the second substrate; disposing the second substrate over the f
What is claimed is: 1. A method for forming a gas barrier on an electronic device, comprising:providing a first substrate, having at least one electronic device thereon;providing a second substrate and forming the gas barrier on the second substrate;disposing the second substrate over the first subs
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