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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0830777 (2007-07-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 151 |
Conductive or barrier material is deposited on a semiconductor substrate having recessed features by a method that has at least two operations. The first operation involves depositing a layer of the material on at least a portion of the field regions of the wafer. The second operation involves respu
What is claimed is: 1. A method of depositing material on a semiconductor wafer substrate having field regions and recessed features, the method comprising:(a) depositing a layer of the material on at least a portion of the field regions of the wafer;(b) forming a particle reflector over the semicon
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