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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0306904 (2007-06-13) |
등록번호 | US8047510 (2011-10-17) |
우선권정보 | JP-2006-006-177113(2006-06-27) |
국제출원번호 | PCT/JP2007/000628 (2007-06-13) |
§371/§102 date | 20081229 (20081229) |
국제공개번호 | WO08/001483 (2008-01-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 5 |
An evaporation supply apparatus for raw material used in semiconductor manufacturing includes a source tank in which a raw material is pooled; a flow rate control device that supplies carrier gas at a regulated flow rate into the source tank; a primary piping path for feeding mixed gas G0, made up o
What is claimed is: 1. An evaporation supply apparatus for a raw material, comprising:a source tank in which a raw material is pooled;a flow rate control device that, while regulating a flow rate of a carrier gas G1 at a constant flow rate from a carrier gas supply source, supplies the carrier gas G
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