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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0234555 (2005-09-23) |
등록번호 | US8048117 (2011-10-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 415 |
Systems and method in accordance with embodiments of the present invention can includes an implant having a spacer with an expandable portion. An insert can be positioned within a groove of the spacer to distract the expandable portion away from the main portion of the spacer. The expandable portion
What is claimed: 1. An interspinous implant adapted to be inserted between spinous processes, the implant comprising:an interspinous spacer, including:a main portion having a recess;an expansion portion movable relative to the main portion between a retracted configuration relatively closer to the m
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