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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0102095 (2008-04-14) |
등록번호 | US8053540 (2011-10-25) |
우선권정보 | KR-2003-0-2003-0052425(2003-07-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 27 |
The present invention relates to a catalyst precursor composition for electroless plating, and more specifically, the present invention provides the catalyst precursor composition comprising (a) a reactive oligomer; (b) a reactive monomer; (c) a photoinitiator; (d) a catalyst precursor for electrole
What is claimed is: 1. A method of preparing transparent electromagnetic interference shielding material, comprising:preparing a catalyst precursor composition comprising:(a) a reactive oligomer which has acrylate or methacrylate as a functional group, and a molecular weight ranging from 500 to 5000
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