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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0565598 (2009-09-23) |
등록번호 | US8058611 (2011-11-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 6 |
A system for preventing backflow as part of an ion source arrangement is introduced. Such a system incorporates a novel continuous flow guide within a source, such as an API ion source. In the spray direction, the cross-sectional area that defines the first portion of the internal volume initially d
The invention claimed is: 1. A system for preventing backflow in an ion source, comprising:a housing chamber;a continuous flow guide configured within said housing chamber, wherein said continuous flow guide comprises a converging first volume and a diverging second volume coupled at a minimal cross
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