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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0519242 (2006-09-11) |
등록번호 | US-RE42917 (2011-11-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 14 |
There is provided by this invention an improved rf power control device for plasma applications for optimization of the feedback control voltage in the presence of harmonic and non-harmonic spurious frequencies. In this system, an oscillator and mixer, similar to those normally used in radio receive
We claim: 1. A VHF generator for delivering rf power to a plasma, comprising,a) a variable rf signal generator including a power amplifier connected to a directional coupler;b) the directional coupler having one output connected to a matching network wherein power is delivered to plasma in a process
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