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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0931908 (2004-09-01) |
등록번호 | US8075372 (2011-11-29) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 62 |
The invention provides a polishing pad for chemical-mechanical polishing comprising a polymeric material comprising two or more adjacent regions, wherein the regions have the same polymer formulation and the transition between the regions does not include a structurally distinct boundary. In a first
What is claimed is: 1. A polishing pad for chemical-mechanical polishing comprising a pad body comprising a porous polymeric material, the pad body having at least one first region and at least one second region adjacent to the at least one first region, the pad body including pores having a first v
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