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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0478279 (2006-06-29) |
등록번호 | US8075952 (2011-11-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 10 |
A method for preventing particle contamination within a processing chamber is disclosed. Preheating the substrate within the processing chamber may cause a thermophoresis effect so that particles within the chamber that are not adhered to a surface may not come to rest on the substrate. One method t
We claim: 1. A plasma enhanced chemical vapor deposition method of processing a substrate within a chamber having a showerhead, sequentially comprising:inserting the substrate into the chamber;plasma loading the substrate, the plasma loading comprising:igniting an inert plasma within the chamber; an
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