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Method of preparing components, prepared component, lithographic apparatus and device manufacturing method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/52
출원번호 US-0840508 (2004-05-07)
등록번호 US8077287 (2011-11-29)
우선권정보 EP-2003-3252894(2003-05-09)
발명자 / 주소
  • Dams, Johannes Adrianus Antonius Theodorus
  • Kroon, Mark
  • Voorma, Harm-Jan
  • Spee, Carolus Ida Maria Antonius
출원인 / 주소
  • ASML Netherlands B.V.
대리인 / 주소
    Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 13

초록

A method of preparing components for use in a vacuum chamber of a lithographic apparatus is disclosed. The method includes coating the component with a non-metallic material. The method may further include treating the coating so as to harden the coating. Preferably, the coating material is a hydrog

대표청구항

What is claimed is: 1. A method of preparing a component of a lithographic projection apparatus to reduce outgassing inside the lithographic projection apparatus, said component comprising at least one of a coil, a magnet, or a yoke of an actuator, said method comprising:coating a surface of said co

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Tran Khanh Q., Borderless vias with HSQ gap filled metal patterns having high etching resistance.
  2. Hazelton Andrew J. ; Eaton John K., Cooling system for a linear or planar motor.
  3. Camilletti Robert C. (Midland MI) Saadat Irfan (Santa Clara CA) Thomas Michael (Milpitas CA), Curing hydrogen silsesquioxane resin with an electron beam.
  4. Takei Seiji (Kanagawa JPX), Direct current linear motor and a direct drive unit on which it is equipped.
  5. Hazelton Andrew J., Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber.
  6. McBride Richard (Trenton NJ) Wong Ching-Ping (Lawrenceville NJ), Encapsulation techniques which include forming a thin glass layer onto a polymer layer.
  7. Tichenor Daniel A. ; Kubiak Glenn D. ; Haney Steven J. ; Sweeney Donald W., Extreme ultraviolet lithography machine.
  8. Koorneef,Lucas; van Aert,Joroen; van Deuren,Frans; Broers,Sanders, Hermetically sealed elements of an actuator.
  9. Mine Katsutoshi (Chiba JPX) Nakamura Takashi (Chiba JPX) Sasaki Motoshi (Chiba JPX), Method for the formation of a silicon oxide film.
  10. Goo Ju-seon,KRX ; Choi Ji-hyun,KRX ; Hwang Byung-keun,KRX ; Lee Hae-jeong,KRX, Method of fabricating and curing spin-on-glass layers by electron beam irradiation.
  11. Garza Mario (Sunnyvale CA) Chao Keith (San Jose CA), Process of curing hydrogen silsesquioxane coating to form silicon oxide layer.
  12. Kishkovich Oleg P. ; Kinkead Devon A., Protection of semiconductor fabrication and similar sensitive processes.
  13. Yerman Alexander J. (Scotia NY), Semiconductor element having a polymeric protective coating and glass coating overlay.
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