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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0905332 (2007-09-28) |
등록번호 | US-8096112 (2012-01-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 6 |
An exhaust after-treatment system having a main tank configured to retain and supply a reductant is disclosed. The exhaust after-treatment system includes a main heat source disposed in the main tank and configured to thaw the reductant. The exhaust after-treatment system also includes a secondary t
1. An exhaust after-treatment system, comprising: a main tank sized to retain a first supply of reductant when full;a main heat source disposed within the main tank;a secondary tank sized to retain a second supply of reductant when full, the second supply being smaller than the first supply;a second
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