검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | F01N-003/00 |
미국특허분류(USC) | 060/295; 060/284; 060/286; 239/130; 239/133; 137/571; 137/341; 222/146.2 |
출원번호 | US-0905332 (2007-09-28) |
등록번호 | US-8096112 (2012-01-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 6 |
An exhaust after-treatment system having a main tank configured to retain and supply a reductant is disclosed. The exhaust after-treatment system includes a main heat source disposed in the main tank and configured to thaw the reductant. The exhaust after-treatment system also includes a secondary tank configured to retain a supply of reductant and a pump configured to pass reductant from the secondary tank to the main tank. The exhaust after-treatment system further includes a secondary heat source configured to thaw the reductant within the secondary t...
1. An exhaust after-treatment system, comprising: a main tank sized to retain a first supply of reductant when full;a main heat source disposed within the main tank;a secondary tank sized to retain a second supply of reductant when full, the second supply being smaller than the first supply;a secondary heat source disposed within the secondary tank, wherein the main heat source is configured to heat the reductant in the main tank without heating the reductant in the secondary tank and the secondary heat source is configured to heat the reductant in the s...