최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0076793 (2008-03-24) |
등록번호 | US-8101466 (2012-01-24) |
우선권정보 | JP-2007-079946 (2007-03-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 51 |
An SOI substrate and a manufacturing method of the SOI substrate, by which enlargement of the substrate is possible and its productivity can be increased, are provided. A step (A) of cutting a first single crystal silicon substrate to form a second single crystal silicon substrate which has a chip s
1. A manufacturing method of an SOI substrate, comprising the steps of: (A) cutting a first single crystal silicon substrate to form a plurality of second single crystal silicon substrates each of which has a chip size;(B) forming an insulating layer on one surface of each of the plurality of second
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.