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Process condition measuring device

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01D-011/24
출원번호 US-0034041 (2008-02-20)
등록번호 US-8104342 (2012-01-31)
발명자 / 주소
  • Sun, Mei H.
  • Wiltse, Mark
  • Renken, Wayne G.
  • Reid, Zachary
  • DiBiase, Tony
출원인 / 주소
  • KLA-Tencor Corporation
대리인 / 주소
    Isenberg, Joshua D.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 19

초록

An instrument for measuring a parameter comprises a substrate, a plurality of sensors carried by and distributed across a surface of the substrate that individually measure the parameter at different positions, an electronic processing component carried by the substrate surface, electrical conductor

대표청구항

1. An instrument for measuring a parameter, comprising: a substrate, a plurality of sensors carried by and distributed at positions across a surface of the substrate that individually measure the parameter at those positions, at least one electronic processing component carried by the substrate surf

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Ekdahl Carl A. (Albuquerque NM), Capacitively-coupled inductive sensor.
  2. Mundt, Randall S., Data collection methods and apparatus.
  3. Einolf ; Jr. Charles W. (Murrysville Borough ; Allegheny County PA), Detecting circuit for a photocell pattern sensing assembly.
  4. Nefedov Anatoly P. (Moscow SUX) Oberman Felix M. (Moscow SUX) Katoshin Jury G. (Moscow SUX) Krugly Semen I. (Moscow SUX) Maljuzhonok Gennady P. (Moscow SUX) Mikhailov Jury S. (Moscow SUX), Device for measuring local electric conductivity of low-temperature plasma.
  5. Ke Kuang-Han ; Lindley Roger A. ; Shan Hongching ; Mett Richard R., Diagnostic pedestal assembly for a semiconductor wafer processing system.
  6. Flietner Bertrand ; Muller K. Paul, In-situ measurement method and apparatus for semiconductor processing.
  7. Clymer, Mark; April, Edward, Inductive sensor.
  8. Renken,Wayne Glenn; Jensen,Earl M.; Gordon,Roy; Paquette,Brian; Sun,Mei H., Integrated process condition sensing wafer and data analysis system.
  9. Renken,Wayne Glenn; Jensen,Earl; Gordon,Roy, Integrated process condition sensing wafer and data analysis system.
  10. Ye, Jun; Chen, Xun, Method and apparatus for monitoring integrated circuit fabrication.
  11. Yagisawa, Shoji; Kanbara, Hiromitsu; Nishikawa, Hiroshi; Ito, Takashi, Method and apparatus for vacuum treatment.
  12. Fuller, Scott; Montgomery, Melvin W.; Albelo, Jeffrey A.; Buxbaum, Alex, Method of preparing optically imaged high performance photomasks.
  13. Freed, Mason L.; Mundt, Randall S.; Spanos, Costas J., Methods and apparatus for obtaining data for process operation, optimization, monitoring, and control.
  14. Smesny Greg A. (Austin TX) Conboy Michael R. (Buda TX), Programmable semiconductor wafer for sensing, recording and retrieving fabrication process conditions to which the wafer.
  15. Corrado, Christopher; Rawa, George; Quartapella, Carmin; Edwards, Timothy, Self contained sensing apparatus and system.
  16. Mahoney, Leonard J.; Almgren, Carl W.; Roche, Gregory A.; Saylor, William W.; Sproul, William D.; Walde, Hendrik V., Sensor array for measuring plasma characteristics in plasma processing environments.
  17. Hunter Reginald, Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system.
  18. Anton Petrus Maria Van Arendonk NL, Solid-state imaging device.
  19. Roche, Gregory A.; Mahoney, Leonard J.; Carter, Daniel C.; Roberts, Steven J., Wafer probe for measuring plasma and surface characteristics in plasma processing environments.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Liu, Hsu-Shui; Pai, Jiun-Rong; Wang, Yeh-Chieh, Method and apparatus for wireless transmission of diagnostic information.
  2. Sun, Mei; Quli, Farhat; Jensen, Earl; Arleo, Paul; Vishal, Vaibhaw, Process condition measuring device (PCMD) and method for measuring process conditions in a workpiece processing tool configured to process production workpieces.
  3. Tedeschi, Leonard; Ramaswamy, Kartik; McCormick, Daniel Thomas; Meagley, Robert Paul, Wafer processing equipment having capacitive micro sensors.
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