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Flow rate control system and shower plate used for partial pressure control system

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05B-001/14
출원번호 US-0219978 (2008-07-31)
등록번호 US-8109288 (2012-02-07)
우선권정보 JP-2003-163696 (2003-06-09)
발명자 / 주소
  • Nagaoka, Hideki
  • Koizumi, Hiroshi
  • Ooyabu, Jun
  • Shimazu, Tsuyoshi
  • Endo, Hiroki
  • Ito, Keiki
  • Hayashi, Daisuke
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 13

초록

A partial pressure control system 45 includes two valves 2 which are branched from an operation gas supply pipe 44 and which variably control operation gas, pressure sensors 3 which are respectively connected to the each valves 2 in series and which detect pressure of the operation gas, and a contro

대표청구항

1. A shower plate which is formed into a disk-like shape for injecting an operation gas to a supply subject, wherein adjacent gas holes for injecting the operation gas are arranged at substantially equal space, and the gas holes are arranged in a form of a hexagon from a center to a periphery of the

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Harris James M. ; Taheri Babak ; Arkilic Errol, Apparatus and method for correcting drift in a sensor.
  2. Carpenter,Craig M.; Mardian,Allen P.; Dando,Ross S.; Tschepen,Kimberly R.; Derderian,Garo J., Apparatus and method for depositing materials onto microelectronic workpieces.
  3. Cornil Jean-Philippe,FRX ; Dutertre Dominique,FRX ; Mode Laurent,FRX ; De Laharpe Vincent,FRX, Compact device for metering gas at variable pressure.
  4. John Sydney Carlow GB; Norman Jorgensen GB; Robert Francis King GB; Roy McAdams GB; Fiona Winterbottom GB, Corona discharge reactor.
  5. McMillin Brian K. ; Knop Robert, Gas distribution apparatus for semiconductor processing.
  6. Harald Herchen ; David Palagashvili ; Dmitry Lubomirsky ; Alex Schreiber, Gas distribution plate.
  7. Waldbusser Edwin, Mass flow controller having automatic pressure compensator.
  8. Lull, John M.; Valentine, William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  9. Ballance David S. ; Bierman Benjamin ; Tietz James V., Multi-zone gas flow control in a process chamber.
  10. Ohmi, Tadahiro; Kagatsume, Satoshi; Sugiyama, Kazuhiko; Minami, Yukio; Nishino, Kouji; Dohi, Ryousuke; Yonehana, Katsunori; Ikeda, Nobukazu; Yamaji, Michio; Hirose, Jun; Fukazawa, Kazuo; Koizumi, Hir, Parallel divided flow-type fluid supply apparatus, and fluid-switchable pressure-type flow control method and fluid-switchable pressure-type flow control system for the same fluid supply apparatus.
  11. Grosshart, Paul Francis, Pressure-based mass flow controller system.
  12. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Davis Cecil J. (Greenville TX) Matthews Robert T. (Plano TX), Programmable multizone gas injector for single-wafer semiconductor processing equipment.
  13. Shajii,Ali; Nagarkatti,Siddharth P., System and method for controlling pressure in remote zones.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Zieger, Claus Dieter; Zieger, Niclas Henning; Buzzi, Guenther, Multiple proportion delivery systems and methods.
  2. Kobayashi, Hiroyuki; Maeda, Kenji; Yokogawa, Kenetsu; Izawa, Masaru; Kanekiyo, Tadamitsu, Plasma processing apparatus.
  3. Kobayashi, Hiroyuki; Maeda, Kenji; Yokogawa, Kenetsu; Izawa, Masaru; Kanekiyo, Tadamitsu, Plasma processing apparatus.
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