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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0084159 (2011-04-11) |
등록번호 | US-8118897 (2012-02-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
A mix head assembly for use in the manufacture of chemical mechanical polishing pad polishing layers is provided, wherein inclusions of entrained gas inclusion defects are minimized.
1. A mix head assembly for forming a chemical mechanical polishing pad polishing layer, comprising: a mix head assembly housing having a housing inlet and a housing outlet;a labyrinth seal mounted to the housing, wherein the labyrinth seal comprises: a seal block having an inert purge gas inlet and
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