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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0887218 (2010-09-21) |
등록번호 | US-8150646 (2012-04-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 13 |
A method for delivering a process gas to a reaction chamber of a plasma processing system using a recipe having a recipe flow rate is provided. The method includes delivering the process gas by a gas flow delivery system controlled by a mass flow controller (MFC) to an orifice. The predicted flow ra
1. A method for delivering a process gas to a reaction chamber of a plasma processing system, the method comprising: delivering said process gas by a gas flow delivery system controlled by a mass flow controller (MFC) to an orifice, said orifice being upstream from said reaction chamber, said proces
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