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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0185279 (2008-08-04) |
등록번호 | US-8175124 (2012-05-08) |
우선권정보 | KR-10-2008-0023926 (2008-03-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 5 |
A frit sealing system for combining a first substrate and a second substrate using frit comprises a laser generating a laser beam, and a homogenizer normalizing the intensity of the laser beam within a cross section of the laser beam in the transverse direction. The frit sealing system further compr
1. A frit sealing system comprising: a laser generating apparatus, wherein an intensity of a laser beam generated thereby is not normalized within a cross section in the transverse direction;a homogenizer configured to normalize the intensity of the laser beam within the cross section of the laser b
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