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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0630603 (2005-06-23) |
등록번호 | US-8178482 (2012-05-15) |
국제출원번호 | PCT/US2005/022598 (2005-06-23) |
§371/§102 date | 20061220 (20061220) |
국제공개번호 | WO2006/023061 (2006-03-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 20 |
A stripping and cleaning composition for cleaning microelectronics substrates, the composition comprising: at least one organic stripping solvent, at least one nucleophilic amine, at least one non-nitrogen containing weak acid in an amount sufficient to neutralize from about 3% to about 75% by weigh
1. A stripping and cleaning composition for cleaning microelectronics substrates, the composition consisting of: about 20 to about 80 wt % of the composition of N-methyl pyrrolidone, monoethanolamine in an amount of from about 10% to about 45% based on the weight of the composition, from about 5% to
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