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Liner for plasma processing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • 15-09
출원번호 US-0400581 (2011-08-30)
등록번호 US-D658691 (2012-05-01)
우선권정보 JP-2011-007264 (2011-03-30)
발명자 / 주소
  • Suzuki, Kouki
  • Yamashita, Jun
  • Ban, Masakazu
  • Ueda, Atsushi
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 30

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

The ornamental design for a liner for plasma processing apparatus, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (30)

  1. Gopinath, Sanjay; Van Cleemput, Patrick A.; Juarez, Francisco; Shrinivasan, Krishnan, Apparatus for maintaining wafer back side and edge exclusion during supercritical fluid processing.
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  2. Monsanty, John, Can lip protector.
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  3. Kimura Norifumi,JPX, Cap for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
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  4. Nagamine, Shuichi; Kishita, Naofumi; Takayanagi, Koji; Miyata, Yuichiro; Takiguchi, Yasushi, Coater cup.
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  5. Calkins,Scot R., Combined fan assembly and shroud.
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  6. Hunt Charles S. (Plymouth MI) Kay Robert W. (Belleville MI) Patrick David T. (Dearborn MI) Schmidt Robert L. (Farmington Hills MI) Shembekar Ajit R. (Dearborn MI), Cooling system for automotive engine.
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  7. Nagakubo,Keiichi; Satoh,Daiki, Cover ring.
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  8. Nakamura,Tsutomu; Tauchi,Susumu; Makino,Akitaka, Cover ring for a plasma processing apparatus.
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  9. Yoshikawa, Wataru; Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Dielectric window for plasma processing device.
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  10. Uchino,Takeo; Shichida,Hiroyuki; Isozaki,Masakazu; Tsubone,Tsunehiko; Makino,Akitaka, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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  11. Hayashi, Daisuke; Tsukahara, Toshiya, Exhaust ring for semiconductor equipment.
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  12. Yabe, Mitsuo; Ikeda, Masahiro; Watanabe, Tomoya, Fan shroud for construction machinery.
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  13. Nakamura,Tsutomu; Tauchi,Susumu; Makino,Akitaka, Grounded electrode for a plasma processing apparatus.
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  14. Robinson, Darrell D., Guide bushing for a wire tying machine.
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  15. Lanni Francesco ; Brown Neal A., Impeller for marine waterjet propulsion apparatus.
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  16. Doba, Shigeki, Inner wall shield for a process chamber for manufacturing semiconductors.
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  17. Takahiro, Kenichi; Mori, Hideaki; Hanashima, Kanji; Oikawa, Toshihiro, Metal ring gasket.
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  18. Kaji Tetsunori,JPX ; Fujii Takashi,JPX ; Yoshigai Motohiko,JPX ; Kawasaki Yoshinao,JPX ; Nishiumi Masaharu,JPX, Plasma processing apparatus having insulator disposed on inner surface of plasma generating chamber.
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  19. Sato, Izumi, Quartz cover for manufacturing semiconductor wafers.
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  20. Balson John E. (227 Lancaster Ave. Devon PA 19333), Rim seal for a can.
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  21. Ishii Katsutoshi,JPX, Ring for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
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  22. Bedingham, William; Ludowise, Peter D.; Pederson, Jeffrey C.; Robole, Barry W., Sample processing disk cover.
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  23. DeHaven William M. (Asheboro NC), Sealing disc for tire retreading.
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  24. Hamlin Edward W., Securing ring for a flexible bellows of a marine outboard drive.
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  25. Tudhope Andrew William ; Jordan David Bruce ; Gonzalez Jose Luis, Shield and cover for target of sputter coating apparatus.
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  26. Tudhope Andrew William ; Jordan David Bruce ; Gonzalez Jose Luis, Shield and cover for target of sputter coating apparatus.
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  27. Tudhope Andrew William ; Jordan David Bruce ; Gonzalez Jose Luis, Shield and cover for target of sputter coating apparatus.
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  28. Cogley,Paul Andrew; Romeo,Derek Joseph; Brooks,Joseph R., Susceptor ring.
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  29. Ota, Kinya; Tian, Cai Zhong; Kitagawa, Junichi, Top panel for microwave introduction window of a plasma processing apparatus.
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  30. Davies Mark S., Two-piece lid.
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이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Baffle plate for manufacturing semiconductor.
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  2. Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Baffle plate for manufacturing semiconductor.
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  3. Tauchi, Susumu; Uemura, Takashi; Sato, Kohei, Cover ring for a plasma processing apparatus.
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  4. Tauchi, Susumu; Uemura, Takashi; Sato, Kohei, Lower chamber for a plasma processing apparatus.
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  5. Lau, Shu-Kwan; Samir, Mehmet Tugrul, Lower chamber liner.
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  6. Lau, Shu-Kwan; Samir, Mehmet Tugrul; Chang, Anzhong; Brillhart, Paul; Collins, Richard O., Lower chamber liner.
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  7. Shono, Eric Kihara, Plasma chamber liner.
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  8. Shono, Eric Kihara, Plasma chamber liner.
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  9. Shono, Eric Kihara, Plasma chamber liner.
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  10. Michla, Alexander; Stockli, Martin, Rotably mounted thermal plasma burner for thermalspraying.
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  11. Lau, Shu-Kwan; Samir, Mehmet Tugrul, Upper chamber liner.
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  12. Lau, Shu-Kwan; Samir, Mehmet Tugrul; Chang, Anzhong; Brillhart, Paul; Collins, Richard O., Upper chamber liner.
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  13. Wagner, Paul F., Wall shield.
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