$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Manufacturing method for exposure mask, generating method for mask substrate information, mask substrate, exposure mask, manufacturing method for semiconductor device and server

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0177143 (2011-07-06)
등록번호 US-8222051 (2012-07-17)
우선권정보 JP-2001-164695 (2001-05-31)
발명자 / 주소
  • Itoh, Masamitsu
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toshiba
대리인 / 주소
    Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 16

초록

There is disclosed a manufacturing method for exposure mask, which comprises acquiring a first information showing surface shape of surface of each of a plurality of mask substrates, and a second information showing the flatness of the surface of each of mask substrates before and after chucked on a

대표청구항

1. A method of manufacturing a device, comprising: preparing a mask substrate, wherein a simulated flatness of a surface of the mask substrate when the mask substrate is chucked on an exposure apparatus satisfies a specification of a flatness with respect to the surface of the mask substrate;forming

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Tsutomu Miyatake JP, Apparatus for detecting positions of wafer and mask and deformation error detecting method.
  2. Emery David Garth ; Saidin Zain Kahuna ; Wihl Mark J. ; Fu Tao-Yi ; Zywno Marek ; Kvamme Damon F. ; Fein Michael E., Automated photomask inspection apparatus and method.
  3. Hara Shinichi,JPX, Device manufacturing method with transfer magnification adjustment to correct thermal distortion of substrate.
  4. Taniguchi Motoya (Yokohama JPX) Koizumi Mitsuyoshi (Yokohama JPX) Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Ikeda Minoru (Yokohama JPX), Exposure process and system.
  5. Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
  6. Itoh, Masamitsu, Manufacturing method for exposure mask, generating method for mask substrate information, mask substrate, exposure mask, manufacturing method for semiconductor device and server.
  7. Itoh,Masamitsu, Manufacturing method for exposure mask, generating method for mask substrate information, mask substrate, exposure mask, manufacturing method for semiconductor device and server.
  8. Fujioka Hidehiko (Yamato JPX) Nose Noriyuki (Atsugi JPX) Ebinuma Ryuichi (Machida JPX) Hara Shinichi (Yokohama JPX) Maehara Hiroshi (Yokohama JPX), Mask manufacturing method and apparatus and device manufacturing method using a mask manufactured by the method or appar.
  9. Kakizaki Yukio,JPX ; Kiuchi Toru,JPX ; Amano Kesayoshi,JPX ; Umatate Toshikazu,JPX, Mask substrate, projection exposure apparatus equipped with the mask substrate, and a pattern formation method utilizing the projection exposure apparatus.
  10. Kawahira Hiroichi,JPX, Method and apparatus for producing scanning data used to produce a photomask.
  11. Shin Jong-Chan,KRX, Method for fabricating an integrated circuit device.
  12. Rolfson J. Brett, Method of forming opaque border on semiconductor photomask.
  13. Takekuma Toshitsugu (Ohme JPX) Suzuki Toshio (Hatoyama-machi JPX) Iwai Hidetoshi (Ohme JPX) Ishihara Masamichi (Hamura JPX), Method of making mask pattern data and process for manufacturing the mask.
  14. Mangat Pawitter Jit Singh ; Dauksher William Joseph, Method of processing a substrate utilizing specific chuck.
  15. Le Chin Aik ; Pierrat Christophe, Process for designing and checking a mask layout.
  16. Hara Hideaki,JPX ; Imai Yuji,JPX ; Murayama Masayuki,JPX, Stage apparatus with improved positioning capability.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트