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Flow blocker plate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • 23-04
출원번호 US-0396608 (2011-07-01)
등록번호 US-D664249 (2012-07-24)
발명자 / 주소
  • Wang, Qunhua
  • Tiner, Robin L.
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson & Sheridan, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 21

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

The ornamental design for a flow blocker plate, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (21)

  1. Oohashi,Kaoru; Mizukami,Shunsuke; Ueda,Takehiro, Absorption board for an electric chuck used in semiconductor manufacture.
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  2. Kinnard, David W.; Richardson, Daniel B., Actively-cooled distribution plate for reducing reactive gas temperature in a plasma processing system.
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  3. Ma, Paul; Shah, Kavita; Wu, Dien-Yeh; Ganguli, Seshadri; Marcadal, Christophe; Wu, Frederick C.; Chu, Schubert S., Apparatus and process for plasma-enhanced atomic layer deposition.
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  4. Chen Chen-An ; Littau Karl Anthony, Chemical vapor deposition manifold.
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  5. Fukasawa Kazuo (Nirasaki JPX), Electrode for a semiconductor processing apparatus.
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  6. Mayer, Steven T.; Porter, David; Rash, Robert, Electroplating flow shaping plate having offset spiral hole pattern.
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  7. Sugimoto, Hiroya, Electrostatic chuck.
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  8. Burkhart Vincent E. ; Flanigan Allen ; Sansoni Steven, Electrostatic chuck with improved spacing and charge migration reduction mask.
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  9. Shamouilian Shamouil ; Kholodenko Arnold ; Kats Semyon ; Sherstinsky Semyon ; Clinton Jon ; Bedi Surinder, Electrostatic chuck with improved temperature control and puncture resistance.
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  10. Fairbairn Kevin ; Ponnekanti Hari K. ; Cheung David, Gas delivery system.
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  11. Imafuku Kosuke,JPX ; Endo Shosuke,JPX ; Fukasawa Kazuo,JPX, Gas diffusion plate for electrode of semiconductor wafer processing apparatus.
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  12. Chen, AiHua; Wang, Shulin; Ho, Henry; Yin, Gerald; Lv, Qing; Fu, Li, Gas distribution assembly for use in a semiconductor work piece processing reactor.
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  13. Harald Herchen ; David Palagashvili ; Dmitry Lubomirsky ; Alex Schreiber, Gas distribution plate.
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  14. Sun,Jennifer Y.; Thach,Senh; Dempster,James; Xu,Li; Pham,Thanh N., Gas distribution plate fabricated from a solid yttrium oxide-comprising substrate.
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  15. Yamaguchi, Akira; Tomita, Hideshi, Highly heat-resistant plasma etching electrode and dry etching device including the same.
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  16. Szapucki Matthew P. ; Kulkaski Richard ; Hadley Trevor J. ; Santorelli Mark Anthony, Showerhead electrode assembly for plasma processing.
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  17. Szapucki Matthew Peter ; Kulkaski Richard ; Hadley Trevor J. ; Santorelli Mark Anthony ; Stoever Robert H., Showerhead electrode for plasma processing.
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  18. Nakamura,Akihiko; Miyanari,Atsushi; Inao,Yoshihiro, Supporting plate.
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  19. Mundt Randall S. (Pleasanton CA) Kerr David R. (Santa Clara CA) Lenz Eric H. (Palo Alto CA), Topology induced plasma enhancement for etched uniformity improvement.
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  20. Hayashi Kyo,JPX ; Miura Hitoshi,JPX, Ventilating fan.
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  21. Nagasaka, Munetoshi; Ogasawara, Ikuo; Shinohara, Eiichi, Wafer attracting plate.
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이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Berkman, Peter D.; Zhang, Ruilin; Pischke, Jeffrey Jon; Malaker, Michael, Audio equipped fan.
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  2. Berkman, Peter D.; Zhang, Ruilin; Pischke, Jeffrey Jon; Malaker, Michael, Audio equipped fan.
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  3. Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Baffle plate.
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  4. Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Baffle plate for manufacturing semiconductor.
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  5. Berkman, Peter D.; Zhang, Ruilin; Pischke, Jeffrey Jon; Malaker, Michael, Fan grille.
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  6. Berkman, Peter D.; Zhang, Ruilin; Pischke, Jeffrey Jon; Malaker, Michael, Method of manufacturing an audio equipped fan assembly.
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  7. Berkman, Peter D.; Malaker, Michael, Square fan grille.
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  8. Funk, William A.; Flanders, Dennis; Dunklee, John L.; Root, Bryan J., Support for a probe test core.
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  9. Dunklee, John L.; Funk, William A.; Page, Matthew; Flanders, Dennis; Root, Bryan J., Top contact layout board in an electrical system.
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