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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0824426 (2010-06-28) |
등록번호 | US-8242468 (2012-08-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 11 |
Ion implanters are especially suited to meet process dose and energy demands associated with fabricating photovoltaic devices by ion implantation followed by cleaving.
1. An ion implanter adapted to implant ions in semiconductor wafers, comprising: a. an appliance configured to hold the wafers;b. an ion source configured to generate ions at a rate;c. a mass analyzer, having a resolving power less than ten, configured to sort the ions according to their respective
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