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특허 상세정보

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Combination of structure and an active damping system, and a lithographic apparatus

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) F16F-007/10    G03B-027/42   
미국특허분류(USC) 188/378; 355/053
출원번호 US-0267809 (2008-11-10)
등록번호 US-8245824 (2012-08-21)
발명자 / 주소
  • Butler, Hans
  • Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria
  • De Pee, Joost
  • De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus
  • Boschker, Stijn
출원인 / 주소
  • ASML Netherlands B.V.
대리인 / 주소
    Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 7
초록

An active damping system to dampen a vibration of at least a part of the structure, including a device to determine a position quantity of the structure and an actuator to exert a force on the structure in dependency of the determined position quantity, wherein the device is a calculation device configured to calculate the position quantity of the structure on the basis of actuator signals.

대표
청구항
▼

1. An active damping system configured to dampen a vibration of at least part of a structure, the active damping system comprising: a calculator configured to determine a position quantity of the structure; andan actuator configured to exert a force on the structure in dependency of the determined position quantity,wherein the calculator is configured to calculate the position quantity of the structure based on actuator signals, andwherein the actuator signals used for calculation of the position quantity are clamp voltage and current. 2. The active damp...

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Yasuda Masashi,JPX ; Itojima Fumiaki,JPX ; Tsuchiya Masaki,JPX, Active vibration isolator.
  2. Butler, Hans; Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria; De Pee, Joost; De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus; Boschker, Stijn, Damping arrangement, active damping system, lithographic apparatus, and projection assembly.
  3. Cox,Henrikus Herman Marie; Jacobs,Hernes; Van Der Schoot,Harmen Klaas; Vosters,Petrus Matthijs Henricus, Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating.
  4. Butler, Hans; Loopstra, Erik Roelof; Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria; De Pee, Joost; De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus; Boschker, Stijn, Lithographic apparatus having an active damping subassembly.
  5. Browning Douglas R. (Berkeley Heights NJ), Reaction mass actuator.
  6. Schubert Dale W. ; Beard Andrew Michael ; Shedd Steven Frank ; Earles ; Jr. Marion Richard ; Von Flotow Andreas H., Stiff actuator active vibration isolation system.
  7. Masato Takahashi JP, Vibration cancellation apparatus and exposure apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Butler, Hans; Oude Nijhuis, Marco Hendrikus Hermanus, Lithographic apparatus for transferring pattern from patterning device onto substrate, and damping method.

IPC 상위 출원인