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Combination of structure and an active damping system, and a lithographic apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F16F-007/10
  • G03B-027/42
출원번호 US-0267809 (2008-11-10)
등록번호 US-8245824 (2012-08-21)
발명자 / 주소
  • Butler, Hans
  • Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria
  • De Pee, Joost
  • De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus
  • Boschker, Stijn
출원인 / 주소
  • ASML Netherlands B.V.
대리인 / 주소
    Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 7

초록

An active damping system to dampen a vibration of at least a part of the structure, including a device to determine a position quantity of the structure and an actuator to exert a force on the structure in dependency of the determined position quantity, wherein the device is a calculation device con

대표청구항

1. An active damping system configured to dampen a vibration of at least part of a structure, the active damping system comprising: a calculator configured to determine a position quantity of the structure; andan actuator configured to exert a force on the structure in dependency of the determined p

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Yasuda Masashi,JPX ; Itojima Fumiaki,JPX ; Tsuchiya Masaki,JPX, Active vibration isolator.
  2. Butler, Hans; Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria; De Pee, Joost; De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus; Boschker, Stijn, Damping arrangement, active damping system, lithographic apparatus, and projection assembly.
  3. Cox,Henrikus Herman Marie; Jacobs,Hernes; Van Der Schoot,Harmen Klaas; Vosters,Petrus Matthijs Henricus, Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating.
  4. Butler, Hans; Loopstra, Erik Roelof; Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria; De Pee, Joost; De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus; Boschker, Stijn, Lithographic apparatus having an active damping subassembly.
  5. Browning Douglas R. (Berkeley Heights NJ), Reaction mass actuator.
  6. Schubert Dale W. ; Beard Andrew Michael ; Shedd Steven Frank ; Earles ; Jr. Marion Richard ; Von Flotow Andreas H., Stiff actuator active vibration isolation system.
  7. Masato Takahashi JP, Vibration cancellation apparatus and exposure apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Butler, Hans; Oude Nijhuis, Marco Hendrikus Hermanus, Lithographic apparatus for transferring pattern from patterning device onto substrate, and damping method.
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